在半導體制作工藝中.50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需要進行化學處理，而化學處理又與超純水有關水中的雜質會進入硅片，如帶入過量的雜質，就會導致器件性能下降.影響產品性能因此，制備高品質的超純水已成為發展大規模集成電路的重要前提技術，如果您正在找經驗豐富的半導體行業專用超純水設備生產公司，請考慮東莞佳潔。您可以從性價比，專業度來考量。

一，半導體行業超純水工藝要滿足以下的特點：

1.1水量大、水質高

微電子行業的發展循環周期大約為2年，這就需要不斷提高超純水的水質如表1所示，集成電路的結構變化對應超純水的水質參數。而且，磚片直徑的加大，需要超純水的水最增大；

1.2系統的穩定性高，運行的連續性強

由于水質的需要，必須在超純水系統連續運行的各個階段防止任何可能的失誤避免停機現象，因非連續性的產水將引起水質的波動在-個純水流程中，非穩定的水流將導致水的污染，如顆粒的產生。

1.3投產前需時短

基于半導體市場的資金壓力，時間是一個重要因素，需要盡量壓縮從決策建廠到投產運行間的時間，即投產前需時：對于超純水系統，要縮短超純水設備工程的投產前需時，就要對超純水設備的生產時間及安裝、調試時間進行優化

1.4超純水設備系統有一定的靈活性，易于擴產

半導體業由于技術發展迅速、市場變化大，其生產能力具有波動性。所以，要求與之配套的超純水系統要有一定的可調節性、留有合理的余量，易于擴產隨著0.25uum和0.18um甚至0.08wm線寬技術的引入，對超純水設備供水的靈活性，安全性，及時性提出了更高的要求，

                                 樂依文半導體15T/H超純水設備 

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